这无异于从零开始！

也就是说，林凡不仅要解决最核心的五大难题，还要解决所有与之相关的问题。

也只有这样做，才能造出一台属于自己的高分辨力光刻机！

对此，林凡虽然有着一定的心理准备，但他也不得不承认，想要做到这样一件事情，难度丝毫不亚于建造一艘十万吨级的核动力航母！

好在林凡前世也曾参与过研制中子弹的项目计划，在那片一望无际的大漠之中，林凡磨练出了远超常人的意志与魄力，尽管他仍会对某些事情感到棘手，但从那以后，他再也不曾轻言放弃。

这是他们那一代的科研工作者们，共同拥有的一种精神！

手握笔尖，在纸随便写写画画了一阵子后，林凡在脑海当中，确定了自己要造的那台光刻机的大致轮廓。

想到卖家或许可以提供一份现成的光刻机设计图纸，以供参考，林凡当即拿起手机，给卖家发了一条消息。

【能不能发我一份宝贝的设计图纸？】

【亲，这个当然可以，你等我找一下，我这就发给你。】

过了一会儿，卖家就将那批7纳米的光刻机设计图纸，通过拍照的方式，发了过来。

得到那批光刻机的设计图纸之后，林凡粗略的对比一下，并在脑海当中稍微做了一些修改。

等到感觉差不多了，林凡重新铺一张白纸，将自己设想的那台光刻机的轮廓，简略的画了出来。

从外形看，像是一个方方正正的柜子。

但这只是完成了第一步。

相当于给自己想要设计的那台光刻机，打了一份底稿。

仅此而已。

接下来，林凡还要想办法解决那五大核心问题。

首先是一台大功率的激光器。

这里可以取巧，毕竟龙国科学界在激光领域取得的技术成果，也不算小。

但要如何将其转化成光刻机可以使用的大功率激光器，需要一定的创造力，以及一定的想象力。

林凡想了很久，觉得可以利用龙科院最新研发的激光武器，稍微做点修改，将其调整为光刻机可以使用的大功率激光器。

但这里还牵扯到另一个问题，那就是光源。

光刻机面使用的光源，大致可以分为四种。

第一种，可见光源，又名g线。

第二种，紫外光，又名i线。

第三种，深紫外光，又名krf。

第四种，极紫外光，又名euv。

前三种的光线分辨力都很差，大多都在200纳米到400纳米之间。

只有极紫外光可以达到5纳米以的光线分辨力！

“不行，得推倒重做。”

想到这里，林凡摇了摇头。

军用的大功率激光器，并不具备自己所需的光线分辨力。

苦思冥想了一阵子，林凡忽然意识到，龙科院之前研制的‘龙光源’，可以发出极紫外自由电子激光脉冲。

并且，单个皮秒激光脉冲，能够产生140万亿个光子。

以此稍微修改一下，做为大功率激光器，还是可以的。

然后是光罩，又名光掩膜版，或是掩膜版。

在制作集成电路的过程中，想要利用蚀刻技术，在半导体形成图形，并将图形复制在晶圆，就必须透过光罩。

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